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Z5系例金手指清洗剂

Z5系例金手指清洗剂

为保证半导体器件高可靠性、稳定性和使用的寿命,提升半导体产品成品率,避免污染物污染而造成电路失效,需要对半导体芯片、WBC清洗、功率模块、功率器件、功率电子、分立器件、BGA植球后清洗、芯片银浆印刷后残留物清洗、功率LED倒装芯片、PoP堆叠组装芯片、SIP系统级封装芯片、DCB、COB、IGBT功率模块半导体封装焊接后的辅料残留包括助焊剂、助焊膏、球焊膏、锡膏残留物和金属污染物(颗粒沾污、碱性金属、重金属等)、有机污垢进行清洗。
行业应用

新型能源、家用电器、照明灯具、航空航天、军工电子、交通工具...

 

产品应用

金手指发黄变色的具体 物质为Ni的氧化物:氧 化镍/氧化亚镍。

 

产品性能

免费协助评估您的应用和工艺

提供免费试用,成功率100%




特性与优势 

●水相溶性好,基材料无腐蚀。铝、铜腐蚀性小。

●清洗无泡,气味小,操作人员易接受。

●易于漂洗,能够被去离子水轻松漂洗,有效的减少了漂洗次数。

●清洗寿命长,使用成本低

●适用于先进封装,混合电路和SMT基板。

●适用 于有铅/无铅锡膏,适用手焊/SMT 



Z5系例是针对金手指发黄变色的具体 物质为Ni的氧化物:氧 化镍/氧化亚镍。清洗开发的一款水基清洗剂,适用于超声波清洗工艺和喷淋清洗工艺。

Z5系例用在超声波清洗工艺中,可批量清洗结构复杂的电子组装件,对于底座低间隙的助焊剂残留物也能达到很好的清洗效果。在超声波清洗工艺中,将待清洗件浸没在清洗槽中,利用超声波在清洗剂中的空化作用、加速度作用及直进流作用,和清洗剂对污垢的超强溶解性相结合,使污垢层被溶解、分散、乳化,或剥离而达到清洗目的。



超声波清洗工业应用参数

     项目     

超声波清洗

超声波漂洗

         干燥       

        单槽    

多槽

         单槽          

多槽

介质

Z5系例

去离子水

热风烘干

温度

40-80℃

40-55℃

80-120℃

时间

15-20min

    每槽15-20min    

5-10min

  每槽 5-10min  

>10 min



喷淋工艺的循环清洗系统更能发挥其易过滤、清洗寿命长及不易起泡等优势。喷淋清洗工艺适用于大批量清洗 ,在线完成化学清洗、漂洗、烘干全部工序。喷淋清洗主要是采用中、高压喷淋泵对清洗液增压,将低流的清洗液转换为高速束流冲擦清洗表面,从而达到清洗的目的。


喷淋清洗工业应用参数

       项目      

喷淋清洗

喷淋漂洗

干燥

第一段

第二段

介质

   Z5系例水基清洗剂      

        去离子水         

         热风烘干          

温度

40-80℃

40-55℃

80-120℃

时间

8-10min

5-10min

>10 min


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